ASML发布EUV光源技术突破使产量提高50%
站内热度 全站第 5,942
1.3万 次浏览
ASML控股公司的研究人员表示，他们找到了一种方法，可以提升关键芯片制造设备中EUV光源的功率，从而在2030年末之前将芯片产量提高50%。ASML目前是全球唯一一家商用极紫外光刻（EUV）设备的制造商。“这是一个能够在满足客户所有相同要求的前提下产生 1000 瓦功率的系统”，相比现有系统接近翻倍。到本十年末，客户每台机器每小时应能处理约 330 片硅晶圆，高于目前的 220 片。周一披露的关键进展包括将等离子锡滴数量增加一倍，达到每秒约 10 万滴，并使用两个较小的激光脉冲将它们塑造成等离子体，而不是像现在的机器那样使用单个成型脉冲。ASML 相信：“我们看到了一条通往 1500 瓦的相当清晰的道路，而且没有任何根本原因导致我们无法达到 2000 瓦。”
—— 路透社
相关文档
评论0
按时间排序 · 回复会嵌套显示还没有评论。有疑问、补充或指正，直接写在下面。
回复